Stig Johansen wrote:
> Jeg kan desværre ikke linke, da det ligger på en anden maskine, men der
> opererer man med 40 nm ( 20+20+20 ) slits, og afstanden fra slit's til
> 'measureplate' er 150 nm.
>
> Så har vi 3 parametre, og mangler blot afstanden fra 'elektronkanonen' til
> slit.
>
> Men 3 ud af 4 er godt nok til mig.
Lidt follow-up.
I forhold til min computermodel, ser man tydeligt, at en elektronstråle
udviser et diffraktionsmønster.
Antager man at elektroner er partikler vil en double slit intuitivt medføre
at der ikke vil være elektrober, der rammer inden for de rette linier
mellem elektronkanonen og den 'midterste' plade.
Men logisk set frastøder elektroner hinanden, og man kan derfor ikke antage
'rette linier'.
Jeg brugte derfor 'Hitachi' parametrene, og injectede en tilsvarende slit.
Resultatet kan ses her:
https://picasaweb.google.com/lh/photo/b9k_v4kuF5V28ud_rcRZow
Hvor jeg har indsat 'measureplate' i højre side med den røde streg som
'baseline'.
Jeg må indrømme at jeg ikke havde troet, jfr. ovenstående, at simuleringen
ville udvikle sig sådan, men det gjorde den.
Men det tager tid at køre sådan en simulering
30219 iterationer á ~1.mio beregninger jfr. simcounter, dvs. 865x sekunder
(der mangler et tal i displayet).
Men jeg er glad for resultatet - problem solved
--
Med venlig hilsen
Stig Johansen